2012年3月，东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECH SI500D等离子体沉积系统。SI500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，用于在基片上沉积SiOx, SiOxNy或SiNy薄膜。沉积薄膜的厚度、折射率、应力可以简单的、连续的调节。 这是带LOADLOCK的SI500D等离子沉积系统在中国的第一次安装。SENTECH ICP-PECVD设备的安装...